Pfeiffer Vacuum ouvre un nouveau centre d 'innovation dans la Silicon Valley

16.12.2021
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硅谷新创新中心(SVIC) Pfeiffer真空10000块carrés à San José le 10 décembre。Cette安装à la fine pointe de la technology créera加上de 20 nouveaux雇佣de haute technology。
Pfeiffer Vacuum ouvre un nouveau centre d 'innovation dans la Silicon Valley

硅谷新创新中心普发真空(图片来源:普发真空有限公司)

Le SVIC为我们的客户服务nord-américains pour ttes les questions techniques ques liées à la technology du vide poussé, en se concentrant sur les applications des半导体和les products普发真空intégrés。Les客户倾试验设备等évaluer de nouvelles解决方案de vide conçues倾leurs应用dès Les premier stades de développement。spécialistes et Des chercheurs sur site fourniront une assistance direct en matière de savavoir -faire pour - tous les products Pfeiffer Vacuum et établiront un lien透明avec l'organisation mondiale de R&D Pfeiffer Vacuum。

«硅谷创新中心démontre notre engagement à创新促进者为客户提供创新服务marché des半导体和à soutenir le développement des技术未来»,déclaré le Dr Britta Giesen, PDG de Pfeiffer真空技术AG。

La technologie du vide est utilisée dans l'industrie des半导体pour La production de微处理器,de support de stockage, d'écrans haute définition等。我们的客户使用的原则,宏伟的秩序,宏伟的秩序,宏伟的秩序,宏伟的秩序,宏伟的秩序,宏伟的秩序。Grâce aux systèmes d'analyse de la pollution et de détection des fuites, les fabricants de puces peuvent augmenter considérablement leur渲染。

«硅谷客户直接合作网站à措施que La complexité微处理器生产继续扩大»,déclare李明,vice-président des ventes pour l'Amérique du Nord chez Pfeiffer Vacuum。«Le centre et son équipe d'experts seront essentiels pour traveler encore + étroitement avec nos clients afin de concevir effective des products and des solution de vide pour leurs défis技术。»

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